Epson leva aluna do IED à Semana de Moda de Nova York

13 de fevereiro de 2015

A Epson, líder mundial em impressão, projeção e imagem digital, promoveu evento de moda no fim de semana que antecede a temporada de inverno da conceituada New York Fashion Week (NYFW).
O evento intitulado Digital Couture Project – EPSON NYFW 2015 é uma ação regional da Epson para todas as Américas. Nela, um promissor criador de cada país foi escolhido para desenvolver uma coleção envolvendo estamparia, que será apresentada em desfile paralelamente à Semana de Moda de Nova York.

A representante do Brasil será Mariana Morrell, aluna da graduação em Design de Moda do Istituto Europeo di Design – IED São Paulo. Ela foi selecionada após um concurso realizado exclusivamente entre os alunos da instituição. Entre os critérios de avaliação, foram levados em conta a qualidade de aplicação da estampa na sublimação, a criatividade e a visão avant-garde do estilista, bem como seu portfolio. O júri foi formado por profissionais da Epson e por coordenadores e professores do IED; a decisão final foi tomada por um comitê em Nova Iorque com representantes da Epson America, formadores de opinião de moda da empresa ShowroomSeven – SeventhHouse PR e da estilista e modelo Tatiana Cotliar.

“A sinergia entre moda e tecnologia de impressão digital tem aberto novas oportunidades, proporcionando ao desenho uma criatividade sem limites, à confecção uma produtividade jamais antes vista, e aos resultados finais um nível de detalhe preciso e uma qualidade ainda melhor”, explica Agustín Chacón, VP de Vendas e Operações das subsidirárias Latino Americanas.

Para o evento em Nova Iorque, a Epson definiu o tema “O Futuro da Moda”, que deve permear todas as coleções apresentadas. São esperadas mais de 200 pessoas do mundo da moda e da indústria têxtil, inclusive com a presença de celebridades do segmento, para conferir os 11 desfiles.

Os estilistas e/ou marcas que apresentarão suas coleções de sublimação digital na cidade de Nova Iorque são: Pilar Briceño (Colômbia), Dual (Costa Rica), Ay Not Dead (Argentina), Moah Saldaña (Peru), Marco Antonio Farías (Chile), María Elisa Guillén (Equador), Pineda Covalin (México), Mariana Morrell (Brasil), Leonor Silva, representando o Caribe (Venezuela/Miami), Maggie Barry (Costa Oeste dos Estados Unidos Costa) e ESOSA (Costa Leste dos Estados Unidos).

A Epson aposta nestes artistas e na tecnologia de sublimação digital, que se posiciona como uma nova tendência na indústria têxtil, imprimindo às suas criações detalhes finos, com cores vivas e perduráveis, oferecendo uma versatilidade criativa e funcional reconhecida por estilistas do mundo inteiro.

O objetivo da Epson é promover jovens criadores que incorporam o processo de sublimação em suas coleções, oferecendo uma chance de divulgação de seu trabalho paralelamente à Semana de Moda. Também é uma oportunidade de disseminar a tecnologia Epson de Sublimação Digital dentro do segmento fashion e apresentar os produtos Epson SureColor® série F aos mais exigentes críticos, estilistas, editores, jornalistas e profissionais do mundo da moda, marcando uma nova tendência nas passarelas de Nova Iorque onde a tecnologia e o desenho unem-se para deslumbrar. As impressoras Epson SureColor Serie F permitem aos estilistas dar vida às suas criações de maneira acessível e com a qualidade que distingue à marca Epson.

Confira o hotsite do evento: http://bit.ly/1B3gzQk

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